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1	Applications to nonthermal plasma processing Roth, J. Reece Institute of Physics Pub. (2001) UDC: 533.9 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 602725 千現 単行書3 533.9|R| 在架（利用可能）
2	Low temperature plasma physics : fundamental aspects and applications Hippler, R. Pfau, Sigismund Wiley-VCH (2001) UDC: 533.9 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 602727 千現 単行書3 533.9|H| 在架（利用可能）

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資料の形態

• 冊子体 (2)

図書館

• 千現 (2)
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コレクション

言語

• English (2)

出版日

• 2000 - 2009 (2)
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予約可能

• はい (2)

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