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1	LSI製造におけるプロセス高性能化技術 : ガス供給システム 第1編 Technology 半導体基盤技術研究会 編; [大見 忠弘, 新田 雄久 監修] 半導体基盤技術研究会 編; [大見 忠弘, 新田 雄久 監修] 半導体基盤技術研究会 リアライズ社 (1989) UDC: 661.9 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 210874 千現 単行書13 661.9|H|12350 在架（利用可能）
2	熱電変換システム技術総覧 深水, 克郎 西本, 昌弘 梶川, 武信 リアライズ理工センター (2004) UDC: 621.36 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 219693 千現 unknown 621.36|F|12069 在架（利用可能）
3	薄膜の力学的特性評価技術 : トライボロジー・内部応力・密着性 金原 粲 [ほか] 金原 粲 [ほか] リアライズ社 (1992) UDC: 539.3 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 219451 千現 単行書5 539.3|K|11869 在架（利用可能）
4	熱電変換工学 : 基礎と応用 Thermoelectrics : Principles and Applications 坂田 亮 [編集委員長] リアライズ社 (2001) UDC: 621.36 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 219338 千現 unknown 621.36|S|11791 貸出中 ( 返却期限: 2024年05月04日 )
5	半導体集積回路用レジスト材料ハンドブック [山岡亜夫 監修] リアライズ社 (1996) UDC: 620.2 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 218065 千現 参考図書23 620.2|Y|10817 在架（利用可能）
6	非晶質シリカ材料応用ハンドブック Practical Manual for Amorphous Siliceous Materials 川副博司 他編 リアライズ社 (1999) UDC: 535 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 218072 千現 単行書3 535|K|10823 在架（利用可能）
7	半導体デバイス工程評価技術 宇佐美晶 リアライズ (1990) UDC: 37.311 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 216058 千現 単行書3 537.311|Ｕ| 在架（利用可能）
8	最新固体表面/微小領域の解析・評価技術 氏平 祐輔 氏平 祐輔 リアライズ社 (1991) 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 210670 千現 単行書4 538.971|Ｓ|T-1428 在架（利用可能）
9	超高純度ガス供給システム 半導体基盤技術研究会 リアライズ社 (1986) UDC: 661.9 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 206501 千現 単行書13 661.9|H|8283 在架（利用可能）
10	黒鉛層間化合物 2 稲垣 道夫, 阿久沢 昇, 遠藤 守信 他 リアライズ社 (1990) UDC: 661.8 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 216082 千現 単行書13 661.8|T|T-1363 在架（利用可能）

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資料の形態

• 冊子体 (10)

図書館

• 千現 (10)
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コレクション

言語

• 日本語 (10)

出版日

• 2000 - 2009 (2)
• 1990 - 1999 (6)
• 1980 - 1989 (2)

予約可能

• はい (10)

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