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1	薄膜の力学的特性評価技術 : トライボロジー・内部応力・密着性 金原 粲 [ほか] 金原 粲 [ほか] リアライズ社 (1992) UDC: 539.3 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 219451 千現 単行書5 539.3|K|11869 在架（利用可能）
2	半導体デバイス工程評価技術 ライフタイム、DLTS評価を中心として 宇佐美 晶 徳田 豊 リアライズ社 (1990) UDC: 621.382 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 529622 並木 単行書16 621.382|U|05575 在架（利用可能）
3	最新プラズマプロセスのモニタリング技術と解析・制御 林 康明 林 康明 リアライズ社 (1997) UDC: 533.9 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 529621 並木 単行書5 533.9|H|05574 在架（利用可能）
4	シリコン結晶欠陥の基礎物性とその評価法 Basic Properties of Defects in Silicon and Their Characterizing Techniques 上浦 洋一 リアライズ社 (1997) UDC: 621.382 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 529620 並木 単行書16 621.382|U|05573 在架（利用可能）
5	半導体デバイス界面の汚染・損傷の評価と対策 黒田 司 岩黒 弘明 リアライズ社 (1992) UDC: 621.382 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 529619 並木 単行書16 621.382|k|05572 在架（利用可能）
6	薄膜の力学的特性評価技術 トライボロジー・内部応力・密着性 金原 粲 リアライズ社 (1992) UDC: 539.3 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 529618 並木 単行書8 539.3|k|05571 在架（利用可能）
7	熱分析の基礎と応用第 ３版@−超伝導からバイオまで.その多彩な展開− 日本熱測定学会 日本熱測定学会 （株）リアライズ社 (1994) UDC: 536.6 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 522702 並木 単行書6 536.6|| 在架（利用可能）
8	半導体集積回路用レジスト材料ハンドブック [山岡亜夫 監修] リアライズ社 (1996) UDC: 620.2 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 218065 千現 参考図書23 620.2|Y|10817 在架（利用可能）
9	非晶質シリカ材料応用ハンドブック Practical Manual for Amorphous Siliceous Materials 川副博司 他編 リアライズ社 (1999) UDC: 535 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 218072 千現 単行書3 535|K|10823 在架（利用可能）
10	最新固体表面/微小領域の解析・評価技術 氏平 祐輔 氏平 祐輔 リアライズ社 (1991) 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 210670 千現 単行書4 538.971|Ｓ|T-1428 在架（利用可能）

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資料の形態

• 冊子体 (11)

図書館

• 並木 (6)
• 千現 (5)

コレクション

言語

• 日本語 (11)

出版日

• 1990 - 1999 (11)
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予約可能

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