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タイトル
1
薄膜の力学的特性評価技術 : トライボロジー・内部応力・密着性
金原 粲 [ほか]
金原 粲 [ほか]
リアライズ社
(1992)
UDC: 539.3
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
219451
千現
単行書5
539.3|K|11869
在架(利用可能)
2
半導体デバイス工程評価技術 ライフタイム、DLTS評価を中心として
宇佐美 晶
徳田 豊
リアライズ社
(1990)
UDC: 621.382
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
529622
並木
単行書16
621.382|U|05575
在架(利用可能)
3
最新プラズマプロセスのモニタリング技術と解析・制御
林 康明
林 康明
リアライズ社
(1997)
UDC: 533.9
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
529621
並木
単行書5
533.9|H|05574
在架(利用可能)
4
シリコン結晶欠陥の基礎物性とその評価法 Basic Properties of Defects in Silicon and Their Characterizing Techniques
上浦 洋一
リアライズ社
(1997)
UDC: 621.382
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
529620
並木
単行書16
621.382|U|05573
在架(利用可能)
5
半導体デバイス界面の汚染・損傷の評価と対策
黒田 司
岩黒 弘明
リアライズ社
(1992)
UDC: 621.382
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
529619
並木
単行書16
621.382|k|05572
在架(利用可能)
6
薄膜の力学的特性評価技術 トライボロジー・内部応力・密着性
金原 粲
リアライズ社
(1992)
UDC: 539.3
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
529618
並木
単行書8
539.3|k|05571
在架(利用可能)
7
熱分析の基礎と応用第 3版@−超伝導からバイオまで.その多彩な展開−
日本熱測定学会
日本熱測定学会
(株)リアライズ社
(1994)
UDC: 536.6
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
522702
並木
単行書6
536.6||
在架(利用可能)
8
半導体集積回路用レジスト材料ハンドブック
[山岡亜夫 監修]
リアライズ社
(1996)
UDC: 620.2
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
218065
千現
参考図書23
620.2|Y|10817
在架(利用可能)
9
非晶質シリカ材料応用ハンドブック Practical Manual for Amorphous Siliceous Materials
川副博司 他編
リアライズ社
(1999)
UDC: 535
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
218072
千現
単行書3
535|K|10823
在架(利用可能)
10
半導体デバイス工程評価技術
宇佐美晶
リアライズ
(1990)
UDC: 37.311
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
216058
千現
単行書3
537.311|U|
在架(利用可能)
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合計: 12
検索結果のフィード
資料の形態
冊子体 (12)
図書館
並木 (6)
千現 (6)
コレクション
言語
日本語 (12)
出版日
1990 - 1999 (12)
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予約可能
はい (12)
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