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1
LSI製造におけるプロセス高性能化技術 : ガス供給システム 第1編 Technology
半導体基盤技術研究会 編; [大見 忠弘, 新田 雄久 監修]
半導体基盤技術研究会 編; [大見 忠弘, 新田 雄久 監修]
半導体基盤技術研究会
リアライズ社
(1989)
UDC: 661.9
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
210874
千現
単行書13
661.9|H|12350
在架(利用可能)
2
黒鉛層間化合物 2
稲垣 道夫, 阿久沢 昇, 遠藤 守信 他
リアライズ社
(1990)
UDC: 661.8
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
216082
千現
単行書13
661.8|T|T-1363
在架(利用可能)
3
最新固体表面/微小領域の解析・評価技術
氏平 祐輔
氏平 祐輔
リアライズ社
(1991)
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
210670
千現
単行書4
538.971|S|T-1428
在架(利用可能)
4
最新プラズマプロセスのモニタリング技術と解析・制御
林 康明
林 康明
リアライズ社
(1997)
UDC: 533.9
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
529621
並木
単行書5
533.9|H|05574
在架(利用可能)
5
シリコン結晶欠陥の基礎物性とその評価法 Basic Properties of Defects in Silicon and Their Characterizing Techniques
上浦 洋一
リアライズ社
(1997)
UDC: 621.382
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
529620
並木
単行書16
621.382|U|05573
在架(利用可能)
6
超高純度ガス供給システム
半導体基盤技術研究会
リアライズ社
(1986)
UDC: 661.9
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
206501
千現
単行書13
661.9|H|8283
在架(利用可能)
7
熱電変換工学 −基礎と応用ー
坂田 亮
(㈱リアライズ社
(2001)
UDC: 536.2
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
522897
並木
単行書6
536.2|S|05553
在架(利用可能)
8
熱電変換工学 : 基礎と応用 Thermoelectrics : Principles and Applications
坂田 亮 [編集委員長]
リアライズ社
(2001)
UDC: 621.36
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
219338
千現
unknown
621.36|S|11791
貸出中
( 返却期限:
2024年04月10日 )
9
熱分析の基礎と応用第 3版@−超伝導からバイオまで.その多彩な展開−
日本熱測定学会
日本熱測定学会
(株)リアライズ社
(1994)
UDC: 536.6
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
522702
並木
単行書6
536.6||
在架(利用可能)
10
薄膜の力学的特性評価技術 トライボロジー・内部応力・密着性
金原 粲
リアライズ社
(1992)
UDC: 539.3
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
529618
並木
単行書8
539.3|k|05571
在架(利用可能)
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合計: 15
検索結果のフィード
資料の形態
冊子体 (15)
図書館
千現 (8)
並木 (7)
コレクション
言語
日本語 (15)
出版日
2000 - 2009 (2)
1990 - 1999 (11)
1980 - 1989 (2)
予約可能
はい (15)
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