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1 Ultrathin SiO2 and High-K Materials for ULSI Gate Dielectrics : Symposium held April 5-8, 1999,San Francisco, California, U.S.A. ; MRS Vol.567 Vol.567 Vol.567 冊子体
所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態
218361 千現 プロシーディングス26 画像 MRS|P|11095 在架(利用可能)