Showing Item
[M]
フェライトめっき膜の高抵抗化・高透磁率化とGHz帯域用伝導ノイズ抑制体への志用 
Creator: 阿部, 正紀 多田, 大 松下, 伸広 近藤, 幸一 吉田, 栄吉 Contributor: 日本粉末冶金工業会
(Date of publication: 2005)
https://hdl.handle.net/20.500.11932/1320562 
Manifestation: フェライトめっき膜の高抵抗化・高透磁率化とGHz帯域用伝導ノイズ抑制体への志用
Checkout type: 標準
Circulation status: Available On Shelf
Call number:
Register number:
Item identifier:
Include supplements: No
Required role: Guest
Acquired at:
Note:
Accepted at:
Created at: Mon, 31 Jul 2023 14:21:17 +0900
Updated at: Mon, 31 Jul 2023 14:21:17 +0900
