[M] フェライトめっき膜の透磁率に関する現象論

Creator: 阿部, 正紀 Siong, EweChun 多田, 大 松下, 伸広 Contributor: 日本粉末冶金工業会 (Date of publication: 2005)
https://hdl.handle.net/20.500.11932/1320560

Manifestation: フェライトめっき膜の透磁率に関する現象論

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