[M] Deposition of Thin Films of Aluminum Oxide-H20 System from Aqueous Solutions at Room Temperature

著者: Ito, Shigeru Shin, Yukiko Sato, Seiichi Fujii, Takashi 協力者・編者: Okamoto, Ｋ. Kita, Hidetoshi Nakayama, Noriaki Yamamoto, Setsuo Higa, Mitsuru Ohshima, Naoki Ioku, Koji Hashimo, Kazuhiko Schmidt, Helmu Ohtaki, Michitaka Terasaki, Ichiro Kajitani, Tsuyoshi Funahashi, Ryoji Akashi, Mitsuru Suda, Yasuo Aoyagi, Takao Taguchi, Takahisa Ohgushi, Hajime Tanaka, Junzo Yamashita, Kimihiro Kobayashi, Hisatoshi TaniguiroKirihara, Akiyoshi (出版日: 2004)
https://hdl.handle.net/20.500.11932/1272556

• 書誌詳細

コレクション:	元素戦略ライブラリー
形態:	冊子体
言語:	不明
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識別子:	Handle URI: https://hdl.handle.net/20.500.11932/1272556
全文ファイル	Transactions_of_the_Materials_Research_Society_of_JapanNo5_OCR_154.pdf (0.25 MB) NIMS Read Only ライセンス: Prohibit Commercial Use (NIMS only)
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