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Reagent chemicals : American Chemical Society specifications, official from January 1, 1987

American Chemical Society (1986) UDC: 54-4

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
602914	並木	単行書13	54-4\|R\|	在架（利用可能）

化学熱力学

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
602911	並木	単行書8	536.7\|K\|	在架（利用可能）

Thermodynamics of irreversible processes

Haase, Rolf Addison-Wesley (1969) UDC: 536.75

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
602907	並木	単行書8	536.75\|H\|	在架（利用可能）

Group theory with applications in chemical physics

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
602887	並木	単行書5	53\|J\|	在架（利用可能）

Handbook of chemical vapor deposition (CVD) : principles, technology, and applications

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
602867	並木	単行書4	621.793\|P\|	在架（利用可能）貸出不可

Chemical oscillations, waves, and turbulence

蔵本, 由紀 Dover Publications (2003) UDC: 544

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
602846	並木	単行書15	544\|K\|	在架（利用可能）

Chemical vapor deposition of refractory metals and ceramics II : symposium held December 4-6, 1991, Boston, Massachusetts, U.S.A. II

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
602822	並木	集密書庫60	MRS\|P\|250	在架（利用可能）

分析化学

Pecsok, Robert L. 荒木, 峻鈴木, 繁喬東京化学同人 (1980-05) UDC: 543

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
602667	並木	単行書14	543\|P\|	在架（利用可能）

Chemical physics of thin film deposition processes for micro- and nano-technologies

Pauleau, Y. Kluwer Academic (2002) UDC: 539.216

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
602722	並木	単行書11	539.216\|P\|	在架（利用可能）

Membrane technology in the chemical industry

Nunes, S. P. Peinemann, K. V. Wiley-VCH (2006) UDC: 539.2

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
602355	並木	単行書11	539.2\|P\|	在架（利用可能）

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