[M] Preparation of aluminum oxide films at low temperatures by a hot wall technique

著者: AZUMA Naoto TERADA Tomoaki ISHINO Kenei NAKAMURA Takato FUJIYASU Hiroshi UENO Akifumi MOMOSE Yoshimi AOKI Toru NAKANISHI Yoichiro (出版日: 2001)
https://hdl.handle.net/20.500.11932/616568

資料: Preparation of aluminum oxide films at low temperatures by a hot wall technique

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作成時刻: 2023/07/31 14:15:30

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