[M] ゾル・ゲルプロセスによる積層方型ＴｉＯ2／Ｖ2Ｏ5膜の調整とその光触媒性能

著者: 高畠, 進義 中村, 静夫 児島, 雅之 大橋, 憲太郎 (出版日: 2003)
https://hdl.handle.net/20.500.11932/981581

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コレクション:	元素戦略ライブラリー
形態:	冊子体
言語:	不明
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識別子:	Handle URI: https://hdl.handle.net/20.500.11932/981581
全文ファイル	ゾル・ゲルプロセスによる積層方型ＴｉＯ2／Ｖ2Ｏ5膜の調整とその光触媒性能OCR.pdf (0.14 MB) NIMS Read Only ライセンス: Prohibit Commercial Use (NIMS only)
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