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[M] Materials, Technology and Reliability for Low-k Dielectrics, and Copper Interconnects - 2006 : Symposium held April 18-21, 2006, San Francisco, California, U.S.A. ; MRS Vol.914 Vol.914
著者: editors; Ting Y. Tsui, Young-Chang Joo, Lynne Michaelson [et al.] 出版者: Materials Research Society (MRS)
形態: | 冊子体 |
言語: | English |
ページ数と大きさ: | 462p; 24cm |
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所蔵情報ID | 図書館 | 本棚 | 請求記号 | 貸出状態 |
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210818 | 千現 | プロシーディングス26 | MRS|P|12328 | 在架(利用可能) |