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Materials, Technology and Reliability for Low-k Dielectrics, and Copper Interconnects - 2006 : Symposium held April 18-21, 2006, San Francisco, California, U.S.A. ; MRS Vol.914 Vol.914 editors； Ting Y. Tsui, Young-Chang Joo, Lynne Michaelson [et al.] Materials Research Society (MRS) UDC: MRS 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 210818 千現 プロシーディングス26 MRS|P|12328 在架（利用可能）

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