[M] Ultrathin SiO[2] and high-K materials for USLI gate dielectrics : symposium held April 5-8, 1999, in San Francisco, California, U.S.A.

editors, H.R. Huff ... [et al.]
著者: Huff, Howard R. 出版者: Materials Research Society (出版日: 1999)

資料: Ultrathin SiO[2] and high-K materials for USLI gate dielectrics : symposium held April 5-8, 1999, in San Francisco, California, U.S.A.

本棚: 集密書庫60 (並木)

貸出区分: 標準

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受入日: 2000年06月02日

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作成時刻: 2010/12/15 23:55:22

更新時刻: 2025/12/03 16:34:35