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Ultrathin SiO2 and High-K Materials for ULSI Gate Dielectrics : Symposium held April 5-8, 1999,San Francisco, California, U.S.A. ; MRS Vol.567 Vol.567 Vol.567 
著者: editors, H.R. Huff, C.A. Richter, M.L. Green [et al.] 出版者: Materials Research Society (MRS)
(出版日: 1999)
| 版: | |
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| 巻号: | 巻: Vol.567 |
| 形態: |
冊子体
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| 言語: | English |
| ページ数と大きさ: | 615p; 24cm |
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| 分類: | |
| タグ: |
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| 識別子: | ISBN: 9781558994744 |
| アブストラクト: | |
| 注記: |
| 所蔵情報ID | 図書館 | 本棚 | 請求記号 | 貸出状態 |
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| 218361 | 千現 |
プロシーディングス26 
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MRS|P|11095 | 在架（利用可能） |