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[M] Ultrathin SiO2 and High-K Materials for ULSI Gate Dielectrics : Symposium held April 5-8, 1999,San Francisco, California, U.S.A. ; MRS Vol.567 Vol.567 Vol.567 冊子体

著者: 出版者: Materials Research Society (MRS) (出版日: 1999)

版:
巻号: 巻: Vol.567
形態: 冊子体 冊子体
言語: English
ページ数と大きさ: 615p; 24cm
件名:
分類:
識別子: ISBN: 9781558994744
アブストラクト:

所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態
218361 千現 プロシーディングス26 画像 MRS|P|11095 在架(利用可能)