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Si Front-End Processing - Physics and Technology of Dopant-Defect Interactions : Symposium held April 6-9, 1999, San Francisco, California, U.S.A.; MRS Vol.568 Vol.568 Vol.568 
著者: editors, Hans-Joachim L. Gossmann, Tony E. Haynes, Mark E. Law [et al.] 出版者: Materials Research Society (MRS) (出版日: 1999)
| 版: | |
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| 巻号: | 巻: Vol.568 |
| 形態: |
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| 言語: | English |
| ページ数と大きさ: | 298p; 24cm |
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| 分類: | |
| 識別子: | ISBN: 9781558994751 |
| アブストラクト: | |
| 注記: |
| 所蔵情報ID | 図書館 | 本棚 | 請求記号 | 貸出状態 |
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| 218344 | 千現 |
プロシーディングス26 
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MRS|P|11084 | 在架（利用可能） |