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Ultrathin SiO[2] and high-K materials for USLI gate dielectrics : symposium held April 5-8, 1999, in San Francisco, California, U.S.A. 
editors, H.R. Huff ... [et al.]
著者: Huff, Howard R. 出版者: Materials Research Society (出版日: 1999)
| 雑誌・シリーズ情報: |
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冊子体
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| 言語: | English |
| ページ数と大きさ: | xvii, 615 p. ; 24 cm |
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| 識別子: |
ISBN: 9781558994744
NCID: BA43280580
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| 注記: |
Includes bibliographical references |
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