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Handbook of chemical vapor deposition (CVD) : principles, technology, and applications

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
602867	並木	単行書4	621.793\|P\|	在架（利用可能）貸出不可

Chemical oscillations, waves, and turbulence

蔵本, 由紀 Dover Publications (2003) UDC: 544

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
602846	並木	単行書15	544\|K\|	在架（利用可能）

Chemical vapor deposition of refractory metals and ceramics II : symposium held December 4-6, 1991, Boston, Massachusetts, U.S.A. II

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
602822	並木	集密書庫60	MRS\|P\|250	在架（利用可能）

分析化学

Pecsok, Robert L. 荒木, 峻鈴木, 繁喬東京化学同人 (1980-05) UDC: 543

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
602667	並木	単行書14	543\|P\|	在架（利用可能）

Chemical physics of thin film deposition processes for micro- and nano-technologies

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
602722	並木	単行書11	539.216\|P\|	在架（利用可能）

Membrane technology in the chemical industry

Nunes, S. P. Peinemann, K. V. Wiley-VCH (2006) UDC: 539.2

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
602355	並木	単行書11	539.2\|P\|	在架（利用可能）

Nonporous inorganic membranes : for chemical processing

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
602300	並木	単行書11	539.2\|S\|	在架（利用可能）

Accounts of Chemical Research

ACS

ISSN: 00014842
所蔵情報: 【並木】＜年次:2003-2007＞Vol.36,37(1,6-12),38-39,40(1-7,9-12)

しっかり学ぶ化学熱力学 : エントロピーはなぜ増えるのか

石原, 顕光裳華房 (2019-05) UDC: 536.75

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
602136	並木	単行書8	536.75\|I\|	在架（利用可能）

拡散と移動現象

宝沢, 光紀都田, 昌之菊地, 賢一培風館 (1996-07) UDC: 53

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
602134	並木	単行書6	53\|T\|	在架（利用可能）

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