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タイトル
1
LSI製造におけるプロセス高性能化技術 : ガス供給システム 第1編 Technology
半導体基盤技術研究会 編; [大見 忠弘, 新田 雄久 監修]
半導体基盤技術研究会 編; [大見 忠弘, 新田 雄久 監修]
半導体基盤技術研究会
リアライズ社
(1989)
UDC: 661.9
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
210874
千現
単行書13
661.9|H|12350
在架(利用可能)
2
薄膜の力学的特性評価技術 : トライボロジー・内部応力・密着性
金原 粲 [ほか]
金原 粲 [ほか]
リアライズ社
(1992)
UDC: 539.3
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
219451
千現
単行書5
539.3|K|11869
在架(利用可能)
3
熱電変換工学 : 基礎と応用 Thermoelectrics : Principles and Applications
坂田 亮 [編集委員長]
リアライズ社
(2001)
UDC: 621.36
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
219338
千現
unknown
621.36|S|11791
貸出中
( 返却期限:
2024年05月04日 )
4
半導体集積回路用レジスト材料ハンドブック
[山岡亜夫 監修]
リアライズ社
(1996)
UDC: 620.2
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
218065
千現
参考図書23
620.2|Y|10817
在架(利用可能)
5
非晶質シリカ材料応用ハンドブック Practical Manual for Amorphous Siliceous Materials
川副博司 他編
リアライズ社
(1999)
UDC: 535
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
218072
千現
単行書3
535|K|10823
在架(利用可能)
6
最新固体表面/微小領域の解析・評価技術
氏平 祐輔
氏平 祐輔
リアライズ社
(1991)
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
210670
千現
単行書4
538.971|S|T-1428
在架(利用可能)
7
超高純度ガス供給システム
半導体基盤技術研究会
リアライズ社
(1986)
UDC: 661.9
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
206501
千現
単行書13
661.9|H|8283
在架(利用可能)
8
黒鉛層間化合物 2
稲垣 道夫, 阿久沢 昇, 遠藤 守信 他
リアライズ社
(1990)
UDC: 661.8
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
216082
千現
単行書13
661.8|T|T-1363
在架(利用可能)
検索語
:
詳細検索
合計: 8
検索結果のフィード
資料の形態
冊子体 (8)
図書館
千現 (8)
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コレクション
言語
日本語 (8)
出版日
2000 - 2009 (1)
1990 - 1999 (5)
1980 - 1989 (2)
予約可能
はい (8)
書き出し
RDF/XML
MODS
XLSX
TSV
JSON