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1	LSI製造におけるプロセス高性能化技術 : ガス供給システム 第1編 Technology 半導体基盤技術研究会 編; [大見 忠弘, 新田 雄久 監修] 半導体基盤技術研究会 編; [大見 忠弘, 新田 雄久 監修], 半導体基盤技術研究会 リアライズ社 (1989) UDC: 661.9 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 210874 千現 単行書13 661.9|H|12350 在架（利用可能）
2	薄膜の力学的特性評価技術 : トライボロジー・内部応力・密着性 金原 粲 [ほか] 金原 粲 [ほか] リアライズ社 (1992) UDC: 539.3 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 219451 千現 単行書5 539.3|K|11869 在架（利用可能）
3	熱電変換工学 : 基礎と応用 Thermoelectrics : Principles and Applications 坂田 亮 [編集委員長] リアライズ社 (2001) UDC: 621.36 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 219338 千現 unknown 621.36|S|11791 貸出中 ( 返却期限: 2007年03月25日 )
4	半導体デバイス工程評価技術 ライフタイム、DLTS評価を中心として 徳田 豊, 宇佐美 晶 リアライズ社 (1990) UDC: 621.382 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 529622 並木 単行書16 621.382|U|05575 在架（利用可能）
5	最新プラズマプロセスのモニタリング技術と解析・制御 林 康明 林 康明 リアライズ社 (1997) UDC: 533.9 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 529621 並木 単行書5 533.9|H|05574 在架（利用可能）
6	シリコン結晶欠陥の基礎物性とその評価法 Basic Properties of Defects in Silicon and Their Characterizing Techniques 上浦 洋一 リアライズ社 (1997) UDC: 621.382 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 529620 並木 単行書16 621.382|U|05573 在架（利用可能）
7	半導体デバイス界面の汚染・損傷の評価と対策 黒田 司, 岩黒 弘明 リアライズ社 (1992) UDC: 621.382 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 529619 並木 単行書16 621.382|k|05572 在架（利用可能）
8	薄膜の力学的特性評価技術 トライボロジー・内部応力・密着性 金原 粲 リアライズ社 (1992) UDC: 539.3 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 529618 並木 単行書8 539.3|k|05571 在架（利用可能）
9	熱電変換工学 −基礎と応用ー 坂田 亮 (㈱リアライズ社 (2001) UDC: 536.2 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 522897 並木 単行書6 536.2|S|05553 在架（利用可能）
10	熱分析の基礎と応用第 ３版@−超伝導からバイオまで.その多彩な展開− 日本熱測定学会 日本熱測定学会 （株）リアライズ社 (1994) UDC: 536.6 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 522702 並木 単行書6 536.6|| 在架（利用可能）

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合計: 16

資料の形態

• 冊子体 (16)

図書館

• 並木 (8)
• 千現 (8)

コレクション

言語

• 日本語 (16)

出版日

• 2000 - 2009 (2)
• 1990 - 1999 (11)
• 1980 - 1989 (3)

予約可能

• はい (15)
• いいえ (1)

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