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1	ガス供給システム 半導体基盤技術研究会 半導体基盤技術研究会 編; [大見 忠弘, 新田 雄久 監修] 半導体基盤技術研究会 リアライズ社 UDC: 661.9 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 210874 千現 単行書13 661.9|H|12350 在架（利用可能）
2	薄膜の力学的特性評価技術 : トライボロジー・内部応力・密着性 金原, 粲 金原 粲 [ほか] リアライズ社 UDC: 539.3
3	熱電変換工学 : 基礎と応用 坂田, 亮 深水, 克郎 久末, 圭介 リアライズ社 UDC: 621.36 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 219338 千現 unknown 621.36|S|11791 貸出中 ( 返却期限: 2024年05月04日 )
4	半導体デバイス工程評価技術 : ライフタイム、DLTS評価を中心として 宇佐美, 晶 徳田, 豊 リアライズ社 UDC: 621.382 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 529622 並木 単行書16 621.382|U|05575 在架（利用可能）
5	最新プラズマプロセスのモニタリング技術と解析・制御 林, 康明 林 康明 リアライズ社 UDC: 533.9 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 529621 並木 単行書5 533.9|H|05574 在架（利用可能）
6	シリコン結晶欠陥の基礎物性とその評価法 上浦, 洋一 リアライズ社 UDC: 621.382 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 529620 並木 単行書16 621.382|U|05573 在架（利用可能）
7	半導体デバイス界面の汚染・損傷の評価と対策 黒田, 司 岩黒, 弘明 リアライズ社 UDC: 621.382 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 529619 並木 単行書16 621.382|k|05572 在架（利用可能）
8	薄膜の力学的特性評価技術 : トライボロジー・内部応力・密着性 金原, 粲 リアライズ社 UDC: 539.3 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 529618 並木 単行書8 539.3|k|05571 在架（利用可能）
9	熱電変換工学 : 基礎と応用 坂田, 亮 深水, 克郎 久末, 圭介 リアライズ社 UDC: 536.2 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 522897 並木 単行書6 536.2|S|05553 貸出中
10	熱分析の基礎と応用 : 超伝導からバイオまで,その多彩な展開 日本熱測定学会 日本熱測定学会 リアライズ社 UDC: 536.6 所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態 522702 並木 単行書6 536.6|| 在架（利用可能）

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図書館

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