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タイトル
1
LSI製造におけるプロセス高性能化技術 : ガス供給システム 第1編 Technology
半導体基盤技術研究会 編; [大見 忠弘, 新田 雄久 監修]
半導体基盤技術研究会 編; [大見 忠弘, 新田 雄久 監修]
,
半導体基盤技術研究会
リアライズ社
(1989)
UDC: 661.9
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
210874
千現
単行書13
661.9|H|12350
在架(利用可能)
2
薄膜の力学的特性評価技術 : トライボロジー・内部応力・密着性
金原 粲 [ほか]
金原 粲 [ほか]
リアライズ社
(1992)
UDC: 539.3
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
219451
千現
単行書5
539.3|K|11869
在架(利用可能)
3
熱電変換工学 : 基礎と応用 Thermoelectrics : Principles and Applications
坂田 亮 [編集委員長]
リアライズ社
(2001)
UDC: 621.36
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
219338
千現
unknown
621.36|S|11791
貸出中
( 返却期限:
2007年03月25日 )
4
半導体デバイス工程評価技術 ライフタイム、DLTS評価を中心として
徳田 豊
,
宇佐美 晶
リアライズ社
(1990)
UDC: 621.382
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
529622
並木
単行書16
621.382|U|05575
在架(利用可能)
5
最新プラズマプロセスのモニタリング技術と解析・制御
林 康明
林 康明
リアライズ社
(1997)
UDC: 533.9
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
529621
並木
単行書5
533.9|H|05574
在架(利用可能)
6
シリコン結晶欠陥の基礎物性とその評価法 Basic Properties of Defects in Silicon and Their Characterizing Techniques
上浦 洋一
リアライズ社
(1997)
UDC: 621.382
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
529620
並木
単行書16
621.382|U|05573
在架(利用可能)
7
半導体デバイス界面の汚染・損傷の評価と対策
黒田 司
,
岩黒 弘明
リアライズ社
(1992)
UDC: 621.382
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
529619
並木
単行書16
621.382|k|05572
在架(利用可能)
8
薄膜の力学的特性評価技術 トライボロジー・内部応力・密着性
金原 粲
リアライズ社
(1992)
UDC: 539.3
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
529618
並木
単行書8
539.3|k|05571
在架(利用可能)
9
熱電変換工学 −基礎と応用ー
坂田 亮
(㈱リアライズ社
(2001)
UDC: 536.2
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
522897
並木
単行書6
536.2|S|05553
在架(利用可能)
10
熱分析の基礎と応用第 3版@−超伝導からバイオまで.その多彩な展開−
日本熱測定学会
日本熱測定学会
(株)リアライズ社
(1994)
UDC: 536.6
所蔵情報ID
図書館
本棚
請求記号
貸出状態
522702
並木
単行書6
536.6||
在架(利用可能)
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合計: 16
資料の形態
冊子体 (16)
図書館
並木 (8)
千現 (8)
コレクション
言語
日本語 (16)
出版日
2000 - 2009 (2)
1990 - 1999 (11)
1980 - 1989 (3)
予約可能
はい (15)
いいえ (1)
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