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1 LSI製造におけるプロセス高性能化技術 : ガス供給システム 第1編 Technology 冊子体
所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態
210874 千現 単行書13 画像 661.9|H|12350 在架(利用可能)
2 薄膜の力学的特性評価技術 : トライボロジー・内部応力・密着性 冊子体
所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態
219451 千現 単行書5 画像 539.3|K|11869 在架(利用可能)
3 熱電変換工学 : 基礎と応用 Thermoelectrics : Principles and Applications 冊子体
所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態
219338 千現 unknown 621.36|S|11791 貸出中
( 返却期限:
2007年03月25日 )
4 半導体デバイス工程評価技術 ライフタイム、DLTS評価を中心として 冊子体
所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態
529622 並木 単行書15 画像 621.382|U|05575 在架(利用可能)
5 最新プラズマプロセスのモニタリング技術と解析・制御 冊子体
所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態
529621 並木 単行書5 画像 533.9|H|05574 在架(利用可能)
6 シリコン結晶欠陥の基礎物性とその評価法 Basic Properties of Defects in Silicon and Their Characterizing Techniques 冊子体
所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態
529620 並木 単行書15 画像 621.382|U|05573 在架(利用可能)
7 半導体デバイス界面の汚染・損傷の評価と対策 冊子体
所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態
529619 並木 単行書15 画像 621.382|k|05572 在架(利用可能)
8 薄膜の力学的特性評価技術 トライボロジー・内部応力・密着性 冊子体
所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態
529618 並木 単行書8 画像 539.3|k|05571 在架(利用可能)
9 熱電変換工学 −基礎と応用ー 冊子体
所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態
522897 並木 単行書6 画像 536.2|S|05553 貸出中
( 返却期限:
2021年07月28日 )
10 熱分析の基礎と応用第 3版@−超伝導からバイオまで.その多彩な展開− 冊子体
所蔵情報ID 図書館 本棚 請求記号 貸出状態
522702 並木 単行書6 画像 536.6|| 在架(利用可能)

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