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半導体デバイス工程評価技術ライフタイム、DLTS評価を中心として

宇佐美晶徳田豊リアライズ社 (1990) UDC: 621.382

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
529622	並木	単行書16	621.382\|U\|05575	在架（利用可能）

最新プラズマプロセスのモニタリング技術と解析・制御

林康明林康明リアライズ社 (1997) UDC: 533.9

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
529621	並木	単行書5	533.9\|H\|05574	在架（利用可能）

シリコン結晶欠陥の基礎物性とその評価法 Basic Properties of Defects in Silicon and Their Characterizing Techniques

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
529620	並木	単行書16	621.382\|U\|05573	在架（利用可能）

半導体デバイス界面の汚染・損傷の評価と対策

黒田司岩黒弘明リアライズ社 (1992) UDC: 621.382

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
529619	並木	単行書16	621.382\|k\|05572	在架（利用可能）

薄膜の力学的特性評価技術トライボロジー・内部応力・密着性

金原粲リアライズ社 (1992) UDC: 539.3

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
529618	並木	単行書8	539.3\|k\|05571	在架（利用可能）

熱電変換工学 −基礎と応用ー

坂田亮 (㈱リアライズ社 (2001) UDC: 536.2

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
522897	並木	単行書6	536.2\|S\|05553	在架（利用可能）

熱分析の基礎と応用第３版@−超伝導からバイオまで.その多彩な展開−

日本熱測定学会日本熱測定学会（株）リアライズ社 (1994) UDC: 536.6

所蔵情報ID	図書館	本棚	請求記号	貸出状態
522702	並木	単行書6	536.6\|\|	在架（利用可能）

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